简介

金属腐蚀机和激光蚀刻机两者的工作原理是不相同的，金属腐蚀机是通过高压喷淋的方式将化学药水喷淋到金属表面与其发生化学反应，通俗来讲，就是一种氧化还原的过程；激光蚀刻机是通过高能激光速通过激光器产生后由反射镜传递并通过聚集镜照射到加工物品上，使加工物品（表面）受到强大

一直到现在，还有人认为我国芯片制造设备已经突破了最尖端的技术，达到了领先的水平，在很多论坛上总是有我国突破了芯片的5nm加工制程技术的强国贴。这实际上都是源自于带有浓浓“舌尖上的中国”味的《大国重器》中一个介绍片段，这个片段介绍的是我国7nm刻蚀机（或蚀刻机）研制成功，但

生产芯片用的蚀刻机和光刻机有什么区别吗 发布时间：丨点击量：1292 所谓“芯片”，就是把一个极复杂而大型的“印刷电路版”。见过洗印照片的，小时晒过“洋画”的，或印刷厂制版过程的，一说就会融通明白：这芯片的制作，就是当前发展得最高端最精细的“激光照排”技术。

蚀刻机其实是对芯片进行更加精细、微观的雕刻，每个线条和深孔的精度都需要非常精细，精度要求非常严格，总体来说加工的精度实际上取决于前一步骤光刻的精度，确切的说蚀刻机必须在精度上与芯片精度一致，所以蚀刻机几乎与光刻机同等重要，中微的5纳米刻蚀机可以说是继华为5G之后,完全

谈蚀刻设备与真空蚀刻机课程.doc,谈蚀刻设备与真空蚀刻机 About etching equipment and vacuum etching machine ----- Yong-Lin Gong Shanghai Meadville S&T Co., Ltd. 摘要: 本文叙述了蚀刻机的发展, 及其传送、摆动、喷嘴等主要结构的变化与对

本发明涉及一种用于半导体晶片清洗的清洗液，尤其涉及一种不含氟化物和羟胺的低蚀刻性的光阻清洗液组合物。背景技术在半导体元器件的制造过程中，光阻层的涂敷、曝光和成像等图案制造工艺是其必不可少的工艺步骤。但在该图案化工艺(光阻层的涂敷、成像、离子植入和蚀刻)之后，会有部分